概述:

    電子芯片清洗用超純水設(shè)備主要由超濾設(shè)備、反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI裝置等組合而成。

電子芯片清洗用超純水設(shè)備工藝流程：原水→增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→保安過濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透系統(tǒng)→中間水箱(PH調(diào)節(jié))→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透系統(tǒng)→純水箱→純水泵→UV裝置→0.2um精濾器→EDI裝置→用水點(diǎn)

設(shè)備特點(diǎn)：

1.脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級(jí)反滲透和單純的離子交換。

2.較傳統(tǒng)的離子交換法脫鹽節(jié)約樹脂95%以上。

3.離子交換樹脂不需使用酸堿再生，節(jié)約大量酸堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。

4.清潔生產(chǎn)，無廢水處理問題，利于環(huán)保。

5.自動(dòng)化程度高，易維護(hù)，可設(shè)計(jì)成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線。

6.產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm。

7.占地面積小，單一系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，不需建設(shè)備用系統(tǒng)。

8.操作維護(hù)簡(jiǎn)單。
9.運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。
10.無酸堿儲(chǔ)備及運(yùn)輸費(fèi)用。
11.全自動(dòng)運(yùn)行，無需專人看護(hù)。

   可源電子芯片清洗用超純水設(shè)備制水過程高度自動(dòng)化，自動(dòng)進(jìn)水，自動(dòng)制水，純水箱滿水自動(dòng)停機(jī)，用水后自動(dòng)恢復(fù)，可完全實(shí)現(xiàn)無人值守的運(yùn)行，出水水質(zhì)滿足工業(yè)清洗行業(yè)用水標(biāo)準(zhǔn)。