***氣體為強(qiáng)刺激性，不燃?xì)怏w，溶水后有強(qiáng)烈腐蝕性。產(chǎn)品包裝于高壓專用鋼瓶中，處于液態(tài)。專用鋼瓶為鋼質(zhì)無(wú)縫氣瓶，瓶?jī)?nèi)拋光處理。瓶閥為抗腐蝕不銹鋼隔膜閥。鋼瓶設(shè)計(jì)壓力為12.5Mpa,工作壓力約5-6Mpa。

  電子級(jí)(VLSI)***產(chǎn)品生產(chǎn)裝置于2003年投產(chǎn)，經(jīng)北京市科委鑒定，主要用于半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質(zhì)合金制造。電子級(jí)(VLSI)***產(chǎn)品生產(chǎn)裝置于2003年投產(chǎn)，經(jīng)北京市科委鑒定，主要用于半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質(zhì)合金制造。5.0N電子級(jí)(VLSI)***產(chǎn)品分別經(jīng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)研究中心和信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心抽樣檢驗(yàn)，純度大于99.999%，總雜質(zhì)含量小于5ppm，產(chǎn)品性能指標(biāo)與國(guó) 際品牌相當(dāng)。5.0N電子級(jí)(VLSI)***產(chǎn)品經(jīng)國(guó)內(nèi)外多家半導(dǎo)體重點(diǎn)企業(yè)連續(xù)大量在單晶硅片氣相拋光和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用，制得的器件產(chǎn)品質(zhì)量與國(guó)際知名品牌相當(dāng)。

  ***產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝為本公司專利技術(shù)，具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)高純***產(chǎn)品生產(chǎn)空白。***產(chǎn)品參照SEMIC3.35-1101HCl標(biāo)準(zhǔn)，并執(zhí)行國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T24469-2009(電子級(jí))和企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)Q/ZWDL001-2006(化學(xué)級(jí))。***產(chǎn)品采用HCl專用鋼瓶包裝，鋼瓶符合國(guó)標(biāo)GB5099-1994或DOT3AA標(biāo)準(zhǔn)，瓶閥為316L不銹鋼隔膜式閥，接口為CGA330。本公司提供***專用配套設(shè)施、設(shè)備、閥門、減壓器，并提供優(yōu)質(zhì)技術(shù)服務(wù)和售后服務(wù)。本公司具有完備的***專用鋼瓶脫水設(shè)備和技術(shù)，為客戶提供鋼瓶處理和維修服務(wù)。